Korkean tason materiaali Silicon Metal 2502

Materiaali- ja valmistusmenetelmä, jossa on metalli -silisidi, aPiilata metalli 2502nanorakenne, joka käsittää metallihiilisidi -nanorakenteen, joka on valmistettu SOI -substraatille; Tämän SOI -substraatin eristävän dielektrisen kerroksen paksuus on 100-1000 nm, ja piikalvon paksuus on 50-500 nm. Valmistusmenetelmä sisältää puhdistuksen, kuivaamisen, spin -pinnoitteen positiivisen valoresistien, altistumisen, kehityksen ja kiinnittämisen sekä tarvittavan nanorakenteen maskin kuvion rakenteen SOI -substraatin piin ohutkalvojen pinnalle.

1.materiaali ja valmistusmenetelmä metallisilikillä, apiimetalli 2502nanorakenne, joka käsittää metallisilikidin nanorakenteen, joka on valmistettu SOI-substraatille; Tämän SOI-substraatin eristävän dielektrisen kerroksen paksuus on 100-1000 nm ja piikalvon paksuus on 50-500 nm. Valmistusmenetelmä käsittää sen, että SOI-substraatti puhdistetaan, kuivataan, spin-pinnoitetaan positiivisella fotoresistillä, valotetaan, kehitetään ja kiinnitetään ja valmistetaan tarvittavan nanorakenteen maskikuviorakenne SOI-substraatin piiohutkalvopinnalle. Reaktiivista ionisyövytystä käytetään etsaamaan piikalvo SOI-substraatilla vaadittuun nanorakenteeseen, etsauksen syvyys on piikalvon paksuus ja sitten pii-nanorakenteen sisältävässä eristekerroksessa metallikalvo, jota tarvitaan kalvon muodostumiseen. metallisiliki kerrostetaan, ja sitten metalli ja pii reagoivat kiinteässä faasissa korkean lämpötilan hehkutuksella muodostaen metallisilikidiä, ja reagoimaton metalli poistetaan kemiallinen korroosio, eli metallisilikidin nanorakenne muodostuu. Menetelmä on yksinkertainen ja voi ohjata nanorakenteen sijaintia ja mittakaavaa.

Suositut Tagit: korkeatasoinen materiaali piimetalli 2502, Kiina korkeatasoinen materiaali piimetalli 2502 valmistajat, toimittajat, tehdas